真空爐的真空度通常根據(jù)其應(yīng)用的不同而有所不同。一般來(lái)說(shuō)，真空爐的真空度可以分為以下幾個(gè)等級(jí)：

微真空(10^-3 ~ 1 torr)：適用于大多數(shù)常規(guī)的真空熱處理過(guò)程，如退火、燒結(jié)等。此時(shí)，爐內(nèi)氣體分子密度較高，但仍能夠提供一定程度的氣氛控制。

中真空(10^-3 ~ 10^-5 torr)：常用于需要較低氣體含量的熱處理工藝，如高溫真空退火、金屬鑄造等，能夠提供更好的真空環(huán)境和更低的氧化作用。

高真空(10^-5 ~ 10^-7 torr)：適用于對(duì)真空度要求較高的工藝，如高溫?zé)Y(jié)、精密熱處理和材料的高溫處理等。此時(shí)氣體分子密度更低，有利于避免氧化和其他雜質(zhì)的影響。

超高真空(10^-7 torr以下)：用于一些極為精密的應(yīng)用，比如半導(dǎo)體制造、表面科學(xué)實(shí)驗(yàn)和高精度材料處理等。

根據(jù)不同的設(shè)備和處理要求，真空爐的真空度一般可以調(diào)節(jié)在粗真空到高真空之間，具體數(shù)值取決于所需的工藝條件和處理的材料。