博納熱氫氣爐系列
博納熱氫氣爐包含真空氫氣爐和常規(guī)氫氣爐兩種。
使用溫度:≤1200度,≤1400度,≤1700度
真空度:高真空,低真空、無真空
可用氣氛:惰性氣氛（氮氣、氬氣等）,危險氣氛（氫氣等）,無
工藝:燒結、還原、脫脂燒結、保護氣氛還原等
可用結構:箱式、真空、升降式、臺車式等
適用單位:高校、科研所、工礦企業(yè)小批量生產！
博納熱氫氣爐包含真空氫氣爐和常規(guī)氫氣爐兩種。
專注熱處理設備20年，主營設備包含真空爐、管式爐、氣氛爐、箱式爐、脫脂燒結爐、臺車爐、牙科爐等設備，型號齊全，支持定制兩大廠區(qū)存現(xiàn)貨2000余臺，隨時發(fā)出，期待與您合作！
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